該系列化學(xué)真空系統(tǒng)經(jīng)證實(shí)可用于許多蒸發(fā)過程的真空獲取或控制。該系統(tǒng)使一個(gè)泵同時(shí)進(jìn)行兩個(gè)真空操作成為可能。它的基礎(chǔ)泵為MD 4C NT三級化學(xué)隔膜泵，可滿足大部分沸點(diǎn)溶劑的真空要求。該泵的抽速足夠大，允許同時(shí)進(jìn)行兩個(gè)大氣載的操作。該真空系統(tǒng)配備一個(gè)帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進(jìn)行電子真空控制。另一個(gè)真空端口連接一個(gè)手動(dòng)流量控制閥進(jìn)行有效地抽速控制。兩個(gè)真空端口都內(nèi)置止回閥，防止交叉污染。

性能特性

CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜單清晰，內(nèi)置放氣閥  

在較高真空度下仍具有好的性能  

使用氣鎮(zhèn)仍能達(dá)到很好的真空 

大抽速可實(shí)現(xiàn)兩個(gè)獨(dú)立的真空應(yīng)用并行操作；內(nèi)置止回閥防止交叉污染

溶劑回收系統(tǒng)，使其成為一款環(huán)境友好的產(chǎn)品

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